二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。
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溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。
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The adsorption and water gas shift reaction mechanism on reduced cerium dioxide
二氧化铈还原表面上水煤气变换反应机理
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The Preparation of Cerium Dioxide by the Method of Selective Oxidation-Reduction
选择性氧化还原法制备二氧化铈
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XPS Studies of New Oxygen Sensing Thin Films Made by Sputtered Cerium Dioxide
溅射二氧化铈氧敏薄膜的XPS研究
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Study on the CMP Property of GaAs Wafer Using Nano Cerium Dioxide Abrasive
纳米CeO2磨料对GaAs晶片的CMP性能研究
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